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另外網站工業技術研究院量測技術發展中心112 年度分包研究計畫公告也說明:工研院量測技術發展中心 受經濟部委託,執行112 年度科技專案計畫,公開徵求符合資. 格之單位/機構向本中心提出相關研究計畫。本相關分包研究計畫案之 ...

國立勤益科技大學 化工與材料工程系 戴永銘所指導 陳文章的 奈米棒狀ZnO/g-C3N4異質結構光觸媒在可見光照射下的效率 (2021),提出財團法人工業技術研究院量測技術發展中心關鍵因素是什麼,來自於光觸媒、氧化鋅、水楊酸、石墨氮化碳、光催化活性。

而第二篇論文國立中央大學 光機電工程研究所 李朱育所指導 王騏宥的 波長調制共焦干涉術應用於厚度與折射率之量測 (2018),提出因為有 共焦顯微術、波長調制干涉術、波長調制共焦干涉術、厚度與折射率量測的重點而找出了 財團法人工業技術研究院量測技術發展中心的解答。

最後網站財團法人工業技術研究院量測技術發展中心 - 台灣公司網則補充:財團法人工業技術研究院量測技術發展中心,統編:02886949,電話:03-5732246,公司所在地:新竹市東區光復路2段321號.

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了財團法人工業技術研究院量測技術發展中心,大家也想知道這些:

數位轉型推動手冊

為了解決財團法人工業技術研究院量測技術發展中心的問題,作者財團法人中國生產力中心 這樣論述:

  在疫情等黑天鵝的來襲下,為應對多變的情勢、掌控可能的風險、提升企業韌性與預應能力,數位轉型已是企業必須面對的重要議題。     本書首先剖析國際對數位轉型之觀點、做法,建議企業可運用政府的階段性資源,解開推動轉型時的盲點與困惑,並提供實用的評量工具,為身處連續性轉型進程的企業釐清當前的定位,給與具體的轉型參考步驟。     最後分享產業與企業之數位轉型實例,透過標竿案例解析,助企業在數位轉型之路的每一步踏得穩當。     一、借鑒他山之石,洞悉國際數位轉型趨勢   二、運用評量工具,解套數位轉型步驟盲點   三、觀摩實際案例,解析產業個案關鍵做法   各界專家強力推薦     金全益股

份有限公司董事長 王義方   數位經濟暨產業發展協會理事長 陳正然   超秦集團董事長 卓元裕   世堡紡織股份有限公司董事長 羅忠祐

奈米棒狀ZnO/g-C3N4異質結構光觸媒在可見光照射下的效率

為了解決財團法人工業技術研究院量測技術發展中心的問題,作者陳文章 這樣論述:

大量的工業活動會運用到有機汙染物、合成染料,而其大部分會以廢水的形式出現並洩漏到環境中,大多數的汙染物難以被生物降解和使用氧化劑的常規化學氧化。近幾十年來,基於半導體的光催化受到了極大的關注,光觸媒被稱為利用太陽能解決環境污染問題的領先“綠色”技術。在本這篇研究中了一種使用水熱法合成的新型高效複合光觸媒(ZnO-奈米棒(NRs)/g-C3N4)。將合成的樣品通過各式儀器分析和測試: X射線粉末衍射儀(XRD)、場發射掃描電子顯微鏡能量色散X射線光譜儀(FE-SEM-EDS)、高分辨率X射線光電子能譜儀(HR-XPS)、比表面積分析儀(BET)、漫反射光譜儀(DRS)和螢光光譜儀(PL)對產品

的分子元素組成、能隙、化合物結構和氧化態進行測試,接著在可見光照射下探索複合光觸媒的光催化降解水楊酸(SA)的降解效率。與純ZnO-NRs和g-C3N4相比,ZnO-NRs/g-C3N4複合材料在可見光照射下對水楊酸降解的光催化活性顯著提高。通過在可見光照射下降解水溶液中的水楊酸,進一步討論了ZnO-NRs/g-C3N4的光催化活性。催化性能表明使用ZnO-NRs/g-C3N4-20Wt % 作為光觸媒的最佳反應速率常數為0.0063 h-1。ZnO-NRs/g-C3N4複合光觸媒表現出良好的光催化活性、穩定性和可重複使用性,證明了其在可見光照射下光降解應用中的應用前景。

波長調制共焦干涉術應用於厚度與折射率之量測

為了解決財團法人工業技術研究院量測技術發展中心的問題,作者王騏宥 這樣論述:

本論文開發一套,可同時量測物體厚度及折射率之量測系統,應用於檢測窗鏡片加工製程、生物醫學檢測及透鏡的厚度與折射率量測等。本論文系統架構為波長調制共焦干涉儀(WMCI),本系統相較於傳統的共焦顯微鏡系統或是干涉儀系統,之間的差異為傳統的共焦顯微鏡系統及干涉儀,皆需已知物體厚度或折射率其中一個參數,才能量測出另一個參數,而波長調制共焦干涉儀可藉由本系統的核心數學模型,同時求出厚度與折射率。本系統基於共焦顯微鏡及波長調制干涉術之原理,建立一套全新的數學模型,藉由共焦及干涉所量測到的兩個厚度參數,可以解出物體的真實厚度及折射率。以市售雷射窗鏡為待測樣品,作為本系統的量測能力測試,分別量測兩種不同厚度

以及三種不同折射率的物體,並與游標卡尺及廠商表訂規格做比較。實驗結果顯示,厚度量測範圍能達到毫米等級,厚度量測解析度為5 μm;折射率量測解析度為0.0045。本系統搭配電控位移平台,以自行開發的系統控制與訊號處理程式,可達到自動化量測,對於精密機械加工、產品製程及生物醫學上有極大的潛力。