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另外網站任天堂(香港)有限公司網站也說明：此外，為了配合軟體光碟裡已收錄的版本，部分Wii軟體能夠將新版本更新至Wii主機。 目前您所使用的Wii主機，最新版本為4.3。您可以從Wii選單中「Wii主機設定1」確認Wii ...

國立臺北科技大學 材料科學與工程研究所 王錫九、陳適範所指導 洪榮宏的 磁控濺鍍法製備鉭金屬薄膜之特性研究 （2014），提出v71設定關鍵因素是什麼，來自於片電阻、微結構、磁控濺鍍、耐火材料、鉭金屬。

而第二篇論文銘傳大學 資訊傳播工程學系碩士班 陳菁惠所指導 張昊勻的 擴增實境系統開發之研究：以食物鏈學習為例 （2011），提出因為有 互動科技、擴增實境、遊戲科技的重點而找出了 v71設定的解答。

最後網站最近要買無線電~ 我需要大家給我意見!!! - FOCUS MK2 - Ford則補充：都是設定在25W，通常都是送驗完後，才進行擴頻的功能， ... 所以像是Kenwood V71 其實我自己在使用的時候就是可以調整功率看是要用5W 10W 25W

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧：

除了v71設定，大家也想知道這些：

磁控濺鍍法製備鉭金屬薄膜之特性研究

為了解決v71設定的問題，作者洪榮宏 這樣論述：

本實驗以高純度鉭靶材(4N)利用直流磁控濺鍍法與射頻磁控濺鍍法，在設定的濺鍍時間下改變濺鍍功率沉積鉭金屬薄膜，分析兩種不同濺鍍方法所製備之薄膜表面特性與電性。藉由兩種濺鍍方法製得之鉭金屬薄膜，將透過X光繞射儀分析薄膜微結構；以電子顯微鏡觀察鉭金屬薄膜表面形貌及厚度；利用四點探針測量薄膜電阻。X光繞射圖譜中，直流法在不同的濺鍍條件下，都有較明顯的結晶峰值存在；而射頻法使用較低的濺鍍功率50 W製備薄膜，有寬廣繞射峰出現。由實驗結果顯示，直流法使用濺鍍功率100 W以上、濺鍍時間15分鐘以上時，薄膜結構皆有結晶相的存在，而射頻法需使用較大濺鍍功率才有類似的結果出現。最後，在薄膜電性測量方面，因射

頻法在濺鍍時間5分鐘、濺鍍功率50 W的條件下，有非晶結構出現，故薄膜電阻較高。整體而言，射頻法製備而得之薄膜電阻都較直流法高。使用直流濺鍍功率150 W、濺鍍時間40分鐘且不加熱基板的條件下，可以鍍製得到α相鉭薄膜，薄膜的片電阻最低為0.164 ohm/square。

擴增實境系統開發之研究：以食物鏈學習為例

為了解決v71設定的問題，作者張昊勻 這樣論述：

隨著數位科技的進步，電腦輔助教學設備開始在課堂上使用，學習教材也逐漸摻入多媒體元素。近年來虛擬實境技術的應用越來越多，學習者可以在虛擬的環境下互動學習，擴增實境（Augmented reality）能夠提供學習者人性化的操作，自然且直接的互動方式來進行學習，並且讓學習者產生一種身歷其境的感覺。現在是互動科技技術突飛猛進的時代，有相當多的互動式多媒體開發平台可以選擇。早期以鍵盤滑鼠操作為主的遊戲市場逐漸在萎縮，反倒是動態即時互動與體感操作的市場不斷在擴大。擴增實境除了能夠將虛擬與現實結合，再加上影像辨識與偵測的技術做為即時互動的方式，未來在遊戲方面的發展實力是不容忽視得。擴增實境如果與遊戲結合

，能夠讓玩家在不需要任何鍵盤與滑鼠的情況下進行互動，這不僅完美呈現擴增實境虛實合一的特點，操作方式也很直覺。本研究嘗試使用擴增實境標記的互動方式，並透過擴增實境虛實合一的呈現方式，建置一個遊戲式的擴增實境系統，研究其互動方式並探討優缺點。

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