microns真空的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列懶人包和總整理

以田口實驗法研究感光性聚醯亞胺乾膜光阻曝光微影成像圖形之製作參數

為了解決microns真空的問題，作者蕭郁姍 這樣論述：

本研究為新材料-感光性聚醯亞胺乾膜光阻應用在A公司新研發產品的製程參數。此感光性聚醯亞胺乾膜光阻在黃光微影製程的解析能力優，可以提升薄膜製程能力，替代原先的材料，做到曝光成像大小15微米的解析能力，但在A公司作實驗評估時，遇到經過黃光製程曝光顯影完的感光性聚醯亞胺乾膜光阻成像圖形的垂直度不佳的問題，為解決上述問題，本研究將以田口式實驗計劃法與迴歸分析探討實驗結果是否為最佳製程參數以解決感光性聚醯亞胺乾膜光阻成像圖形垂直度不佳的問題。研究最後會評估此感光性聚醯亞胺乾膜光阻在成本與品質的效益。經過實驗和研究分析，發現影響感光性聚醯亞胺乾膜光阻的成像圖形的垂直度的其中關鍵因素是曝光和顯影，而曝光參

數中曝光波長的配比和曝光能量決定了感光性聚醯亞胺乾膜光阻的圖形成像的尺寸大小和成像圖形的垂直度，顯影的時間長短也會影響感光性聚醯亞胺乾膜光阻曝光成像的圖形的尺寸大小和成像圖形的垂直度，經過本研究一系列實驗也證實了微影製程中的曝光和顯影對於感光性聚醯亞胺乾膜光阻的成像圖形的尺寸和成像圖形垂直度有相當大的影響，本研究的結果也成功測試出符合A公司使用此感光型聚醯亞胺乾膜光阻的製作最佳參數，未來可以導入薄膜製程，提昇製程，做出更精細的微細線路、孔徑及高對位的增層技術。

中空型光子晶體光纖的原子氣體擴散之研究

為了解決microns真空的問題，作者林修玄 這樣論述：

奈米光纖、中空型光纖以及光波導等微型元件，能將光侷限在微米或數百奈米的尺度，並使光維持高光學強度且長距離的傳輸。若將中空型光纖置入含原子氣體的真空玻璃腔，並使腔內原子經由擴散進入光纖之中，因光與原子同時侷限於光纖內，將能在其中進行高強度且長距離的交互作用，其將有助於達到弱光甚至單光子等級的量子操控。另外，原子真空腔的材質為硼矽酸玻璃，整體無金屬材質，因此能避免電磁場的干擾，未來可進一步發展成可攜式裝置，其研究將有助於量子感測器(Quantum sensor)等應用。本篇研究主要分為自製銣原子真空腔的製作技術，與研究原子於中空型光纖的擴散行為的兩部分。自製原子真空腔為一玻璃腔體，主要利用渦輪幫

浦與離子幫浦組成的兩段式抽氣設備對腔體抽氣。當腔體內部壓力達到真空度10-7 torr後，將銣原子導入腔體中並燒熔封合。為了確保腔體的真空環境已經足夠完善，我們利用吸收譜線的量測，確定了光學密度隨溫度的變化與飽和蒸氣壓的變化有相同趨勢，且由量測結果確定自製腔體中背景原子與銣原子間沒有明顯交互作用；藉由飽和吸收光譜的量測，確保自製原子真空腔量測的譜線線寬與外購原子腔已不相上下，由此確認原子真空腔製作的技術已成熟。接著我們製作一個具有兩端腔體的漏斗型原子真空腔，其中一端含有銣原子，另一端則無，將直徑12 µm的中空型光纖置入腔體作為連接通道。我們利用原子螢光或吸收譜線來研究原子的擴散行為，從腔體完

成至今歷經四個月量測，尚未觀察到原子擴散至另一端腔體的徵兆，未來預計將中空型光纖改為內徑100 µm的石英毛細管，進行原子擴散之研究，並提供理論模型。