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逢甲大學 工業工程與系統管理學系 蕭堯仁所指導 蔡穀勳的 運用六標準差方法改善曝光機曝光強度-以R公司為例 （2014），提出ddr3報價關鍵因素是什麼，來自於六標準差、半導體、曝光機。

而第二篇論文逢甲大學 經營管理碩士在職專班 蔡千姿所指導 蔡立助的 母子公司間知識移轉成效影響因素之研究－以X DRAM公司為例 （2010），提出因為有 知識吸收能力、知識移轉、知識特性、控制協調機制的重點而找出了 ddr3報價的解答。

最後網站資策會：記憶體供需缺口擴大下半年價量齊跌| MoneyDJ理財網則補充：... 供需比會擴大，價格難支撐，報價逐月下修，每季幅度約下修10-15%。 ... 而在台廠主要著墨的利基型記憶體產品的部分，本來韓廠退出DDR3市場對台廠 ...

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧：

除了ddr3報價，大家也想知道這些：

運用六標準差方法改善曝光機曝光強度-以R公司為例

為了解決ddr3報價的問題，作者蔡穀勳 這樣論述：

台灣，是目前全球半導體廠最密集的國家。在半導體廠中為了維持高效的生產能力，在各系統設備的維護及保養是非常重要的。而其中，在半導體廠中屬於瓶頸機台的曝光機在此環節中更顯重要。若因為保養不當或者因零件生命周期已過而未更換導致機台效能低落進而影響到的產能損失都是非常龐大的。隨機台老舊, 各曝光機台之曝光強度逐漸衰減，平均衰減率達51%。曝光強度衰減將造成產品曝光時間拉長，將影響到製程時間造成整體產能損失。同時曝光強度衰減也造成企業多餘的支出，如雷射用量(B Pulse)的增加。本研究主要目的，利用六標準差管理改善方法DMAIC之五大改進循環，導入曝光機的曝光強度改善。找出影響曝光機曝光強度之問題，

加以改善並將其標準化，以期降低成本、增加產能、維持效能，並讓其他機型之曝光機有其參考依據。經改善後，每片Wafer曝光時間減少7.15秒，一個Lot 減少178.7秒, TC 改善 0.05。Laser 用量節省約20%，每年節省 Contract費用約NTD$5,039K (6台)。間接效益，改善後每月可多產出897片晶圓，以DDR3 的報價1.5美元計算，每月可多產出897片晶圓可替公司帶來每月多出新台幣47,876,926萬的收益。

母子公司間知識移轉成效影響因素之研究－以X DRAM公司為例

為了解決ddr3報價的問題，作者蔡立助 這樣論述：

近年來DRAM產業從策略聯盟技術授權，更進一步深化成共同合資成立子公司，藉由母公司資源投入，透過知識移轉，縮短製程學習曲線、並快速將經驗移轉至子公司，讓子公司迅速建立產能規模、降低營運成本、提升企業獲利；母公司也能透過知識移轉的機制從子公司快速獲取知識，提升母公司的競爭優勢。為了解影響母子公司間知識移轉成效的因素，本研究以某DRAM母子公司為個案，對具有知識移轉經驗之管理階層及資深工程師等為對象進行問卷調查，共發出150份，共回收135份，有效回收率90%。本研究從文獻探討及產業特性界定，確立三項變數的研究架構，利用簡單迴歸、複迴歸、以及變異數分析進行實證分析，研究結果發現如下：1. 經迴歸

分析結果得知，無論從母公司或子公司的立場，控制協調機制的強弱、知識特性，及吸收能力對知識移轉成效，皆具有顯著的正相關。2. 由變異數分析結果，無論母公司或子公司之不同職位別的員工在於移轉成效上具有顯著的差別，但不同部門的員工對於移轉成效無顯著差別。

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