color filter製程的問題,透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列懶人包和總整理

color filter製程的問題,我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍,推薦游孟潔寫的 TFT彩色液晶顯示器 可以從中找到所需的評價。

另外網站360°科技:塗佈(Coating) - Digitimes也說明:在一般彩色濾光片(Color Filter;CF)製程,大致可分為以下工序,為黑色矩陣(Black Matrix)製作、光阻塗佈、曝光、顯影、蝕刻、ITO薄膜濺鍍等, ...

建國科技大學 機械工程系暨製造科技研究所 洪信安所指導 劉柏宏的 薄膜電晶體液晶顯示器彩色濾光片製程之真空乾燥機效能提升之研究 (2020),提出color filter製程關鍵因素是什麼,來自於彩色濾光片、田口方法、真空氣泡、真空乾燥機。

而第二篇論文國立中興大學 材料科學與工程學系所 蔡佳霖所指導 陳信昌的 高光學密度值之黑色矩陣光阻缺陷改善 (2019),提出因為有 彩色濾光片、黑色矩陣、光學密度值的重點而找出了 color filter製程的解答。

最後網站次世代液晶顯示器用彩色濾光片元件之平坦化製程技術開發與擬 ...則補充:詳目顯示 ; 次世代液晶顯示器用彩色濾光片元件之平坦化製程技術開發與擬真度評價指標系統 · Planarization Technologies and Fidelity Evaluation Systems of the Next ...

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了color filter製程,大家也想知道這些:

TFT彩色液晶顯示器

為了解決color filter製程的問題,作者游孟潔 這樣論述:

  隨著數位播放普及化後,TFT彩色液晶顯示器替代原來CRT電視,成為現在最熱門的主流顯示器。目前已開發運用在各類顯示器上,如電腦的液晶螢幕、液晶電視、汽車衛星導航、手機等等。本書針對液晶顯示器之原理、材料、製程、以問答式方式探討,以基本原理為中心來解說液晶顯示器之構造、構成要素及材料。適合欲學習液晶顯示器相關知識之讀者閱讀,為液晶顯示器之最佳入門書籍。

薄膜電晶體液晶顯示器彩色濾光片製程之真空乾燥機效能提升之研究

為了解決color filter製程的問題,作者劉柏宏 這樣論述:

本研究係以增快薄膜電晶體液晶顯示器(以下簡稱TFT LCD)彩色濾光片(CF: Color Filter)製程中的真空乾燥機(以下簡稱VCD: Vacuum dry)抽氣效率,因台灣目前產業使用面板越來越多樣化,產品的規格也越來越高,工廠所追求的品質也越來越高,故產線必須增加生產效率也必須顧及產品品質,而此研究來探討真空乾燥機原本使用二顆真空幫浦增加到四顆真空幫浦 ,測試是否可以提升抽氣效率達到產品製程時間縮短之功效。而VCD最常出現的品質異常為真空氣泡缺陷(以下簡稱VCD Bubble),VCD Bubble引起主因主要為氣流分布不均,或是腔體內壓力變化過快,而導致基板表層出現微小氣泡,故

提升VCD抽氣效率時也必須注意品質狀況,故本實驗除了增加VCD的真空幫浦提升抽氣效率外也使用田口實驗法來探討是否可以找尋出最佳生產參數。測試4顆真空幫浦確實可以增快抽氣效率,但產品品質卻不盡理想,故搭配田口實驗方法探討四項關鍵控制因子,並進行測試驗證,了解各控制因子對於品質的影響,順利找出最佳參數增快真空乾燥機抽氣效率,並降低VCD Bubble的產生。而我們從數據來看,A因子低壓閥門的秒數增加可以穩定腔體壓力,來避免真空氣泡的產生;B因子高壓閥門角度調小,也可以穩定真空乾燥機作動時的穩定性,也可避免真空氣泡的產生,而C因子玻璃與天板距離,和D因子玻璃頂針的調整,都會影響到腔體內部氣流分佈的狀

況,故都必須調整到一定數值來避免真空氣泡產生。

高光學密度值之黑色矩陣光阻缺陷改善

為了解決color filter製程的問題,作者陳信昌 這樣論述:

液晶顯示器(Liquid-Crystal Display, LCD)產業經過數十年的發展,全球顯示面板產業經歷了從美國、日本、韓國再到中國崛起的發展歷程。2018年,中國超過韓國成為全球最大的LCD生產大國;2019年,韓國宣布繼續減少LCD產能,台灣 LCD 產業面臨中國大陸 LCD 面板產能陸續開出遭遇到前所未有挑戰,唯有在良率的保持及製程能力提升,創造低成本高價值產品走出一條生路。 本研究主要是在探討彩色濾光片在生產製程中所出現的遮光及衍生的製程缺陷問題,這是在目前在大世代LCD新產品開發中的研究方向,此問題發生時造成產品異常對良率殺傷極大。而目前在針對製程部分利用提高光阻膜厚達到高

光學密度值(Optical Density , OD),但缺點會因黑色矩陣(Black Matrix,BM) 膜厚增高,造成黑色矩陣光阻材料費用提高。此研究希望透過材料成分組成的改變提高 BM 光學密度值並搭配生產設備參數調整來減少其他巨觀及微觀缺陷產生,而本研究最大的貢獻在於相同膜厚光阻 (1.0 μm),光學密度值可由 4.04 上升至 4.21 以上,並且透過材料成分的分析來改善因光學密度值提高而產生的缺陷。