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中華大學 機械工程學系 馬廣仁所指導 李政圜的 12吋金屬濺鍍設備薄膜結晶改善研究 （2018），提出8d report範例關鍵因素是什麼，來自於薄膜結晶異常。
12吋金屬濺鍍設備薄膜結晶改善研究
為了解決8d report範例 的問題，作者李政圜 這樣論述：
隨著台積電在台投資規模日益龐大製程不斷精進發展，前執行長張忠謀先生的帶領下，市值已達6.7兆台幣並進入2018年世界百大企業名單之列，其技術水準以達世界一流之林，甚至連長久獨霸半導體製程的INTEL都望其向背，故半導體在台灣發展至今已是相當成熟的產業，世界各國亦不斷對我人才提出各種利誘，取得關鍵技術以期冀望在未來互聯網及即將到來的AI世代佔有一席之地。本文研究探討12吋晶片金屬濺鍍設備（PVD）如何改善鋁薄膜的薄膜結晶異常問題，首先我們必須了解影響膜厚生成的因素，並透過實驗手段釐清分析問題，讓問題範圍得以縮小。過程中我們區分製程與硬體兩大類進行調查，製程方面主要有製程環境、溫度、壓力、氣體等
進行分析確認，硬體上主要有反應室零部件的差異、寸法確認、腔體管路洩漏等問題釐清，在經過分析比較以及各項測漏技術:氦氣測漏儀、正壓測漏法、氣體殘量分析儀等輔助，在實驗驗證等階段測試後，發現了異常關鍵因素。在努力改善後，解決了薄膜結晶異常原因，並達成符合客戶產線規格順利獲得產品驗證而量產。