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國立交通大學 管理學院工業工程與管理學程 張永佳所指導 龔進安的 半導體蝕刻製程參數調整最佳化 –以P公司蝕刻製程為例 (2016),提出24吋2k 144hz關鍵因素是什麼,來自於臨界尺寸、統計製程控制、Memory cell、反應曲面法。

而第二篇論文中原大學 機械工程研究所 李有璋所指導 高鈺珉的 膠體微影聚苯乙烯微球排列之設備開發與製程研究 (2016),提出因為有 膠體微影、自組裝排列、自動化設備的重點而找出了 24吋2k 144hz的解答。

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接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了24吋2k 144hz,大家也想知道這些:

24吋2k 144hz進入發燒排行的影片

這次開箱的PHILIPS 328M6FJRMB
是一個32吋的曲面螢幕,最吸引我的地方是2K解析度(2560 × 1440)
除了日常使用外,螢幕刷新率支援144 Hz
所以拿來打遊戲也是非常適合!還支援HDR跟Freesync呢~

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半導體蝕刻製程參數調整最佳化 –以P公司蝕刻製程為例

為了解決24吋2k 144hz的問題,作者龔進安 這樣論述:

在半導體晶圓製造過程中,製程需要三百多道手續,而在這些製程在蝕刻製程後都有一定的圖案的大小,稱為臨界尺寸(Critical Dimension,CD)。CD的大小及變異對於最終產品品質很重要,其中在閘極蝕刻製程後的CD又顯得格外的重要,因為它肩負著一塊積體電路正常運作與否的關鍵。因此本研究針對個案公司的閘極蝕刻製程加以研究,以控制閘極蝕刻製程後其中一個關鍵圖案,Memory cell的CD為目標,利用實驗設計與反應曲面法找出該製程的關鍵因子與最佳設定值,使其能以快速且有效的方式下調整閘極蝕刻製程的參數設定。本研究論文最後以台灣某半導體廠提供之閘極蝕刻製程的實際資料,驗證了本研究方法確實可以快

速有效控制製閘極製程後的CD大小及穩定性。

膠體微影聚苯乙烯微球排列之設備開發與製程研究

為了解決24吋2k 144hz的問題,作者高鈺珉 這樣論述:

膠體微影技術因製程設備、材料成本較低與可製作數十微米到數奈米的尺寸結構之特點,因此成為近期微影技術發展之重點。然而為了解決傳統粒子排列方式受人為因素難以控制排列或排列區域較小之問題,因此本論文是以自組裝氣液界面法為基礎,開發膠體微影的自動化設備,其內容著重於設備設計與製程開發兩個部分。首先自動化設備中分為5大模組,其模組中利用步進馬達為旋轉動力源,藉由滾珠螺桿將旋轉運動轉變為直線運動,使各模組以此方式達成設計要求動作,並藉由可程式邏輯控制器精確控制其製程參數與各模組間相互配合,以降低人為之影響;接著以此開發完成的自動化設備進行製程開發,並完成4吋全晶圓面積之完整排列,藉由探討單層三角晶格最密

堆積中晶粒內裂縫、與產生原因及相對應之製程參數,利用懸浮液中去離子水比例由3.4 g降低至0.68 g、注射次數由3次增加至4次及擋板回壓距離由0.1 mm增加至1 mm,始晶粒內裂縫與單粒子空洞之缺陷降低;注射幫浦模組馬達轉速由5 rpm降低至1 rpm,使粒子堆積之缺陷降低。最終分析人工與設備排列之晶粒差異及原因。