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國立交通大學 光電科技學程 鄭協昌所指導 郭書含的 氧化銦錫薄膜製程對液晶顯示器殘影特性之研究 （2017），提出顯示器殘影關鍵因素是什麼，來自於影像殘留、殘影。
而第二篇論文國立交通大學 平面顯示技術碩士學位學程 劉柏村所指導 廖啟宏的 頂置氧化鍚銦結構對複晶矽半穿透半反射式液晶顯示器殘影改善之研究 （2011），提出因為有 半穿透半反射式、殘影的重點而找出了 顯示器殘影的解答。
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晶理法：液晶、理工、法律
為了解決顯示器殘影 的問題，作者陳歆 這樣論述：
兩兆雙星之高科技液晶顯示器產業避不開智慧財產權的糾紛；所舉兩件專利訴訟案，一是來自日本，另一是起於法國，被告是台灣的奇美電而兩案在美國對簿公堂，確實一跨國性的事件。專利是相關液晶顯示器裡面的化學、物理、電機、數學等技術，擬瞭解侵權訴訟則必須認知液晶的技藝，即本書在訴訟案為導向就先以介紹爾後逐漸加深技術和專利法的解說IC，對有法律素養的人本書應可提供技術和專利法新趨勢的解說，而盼科技人可玩味液晶新技藝並增加法律知識；看完本書的人應可看懂光電研究所程度的課本，並瞭解高科技和專利的互動。最後對關心台灣企業的所有人，液晶顯示器產業的故事，證可彰顯台灣的新光明。
顯示器殘影進入發燒排行的影片
由 Tech a Look 的 姚珧來跟大家介紹 BenQ 明基 多媒體顯示器 GW2250。GW2250擁有超高真實對比度5000: 1 ，結合4毫秒反應時間和8 bit 色彩色階讓影像精湛立體，VA LED廣視角和搭載Full HD細膩影像的高畫質呈現搭配DVI連結端子，讓數位影音享受的樂趣更精彩便捷超乎想像。
- 世界第一 VA LED
BenQ首創世界第一台VA+LED的液晶螢幕，其對比度可達5000:1以上，可讓畫面更立體，與TN及IPS面板相比可顯現更高純度極緻黑色，細膩襯托景物暗部的層次和細節，加深景深與銳利度。
- 5000: 1 高真實對比，影像立體鮮明
VA面板之的對比度相較於IPS/ TN為最高，顯色真實同時黑白對比更高，尤其在暗部表現更加細膩清晰。GW2250並擁5000：1超高真實對比，超低暗度可在亮與暗畫面中表現極佳的對比度，能使畫質層次分明，細節無所遁形！
- 16:9 Full HD 1080P完美視覺享受
支援高規格的畫質解析度(1920X1080)，畫質加倍細膩，可親身體驗每個美麗的小細節，更真實豐富的視覺感動。
- 4毫秒反應速度
GW2250支援灰階4毫秒(GtG)的反應速度，呈現真實快速的畫面表現，觀賞影片時不受殘影之苦。
- BenQ獨家Senseye真色彩科技
感受最真實的色彩呈現，BenQ Senseye® 科技完美演繹六種情境-標準/電影/遊戲/相片/eRGB/省電模式，可依照您的觀賞需求自由選擇。由省電模式下再維持舒適的亮度呈現之下， 可減少電源消耗功率！
- ecoFACTS綠色標示
2011年起，BenQ全產品加上ecoFACTS綠色標示，清楚告訴您BenQ產品所採用的綠色設計與綠色材料。
**以上資料參考 明基 BenQ 官方網站**
更多產品訊息請瀏覽 明基 BenQ 產品網址 :
http://www.benq.com.tw/product/monitor/gw2250/
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氧化銦錫薄膜製程對液晶顯示器殘影特性之研究
為了解決顯示器殘影 的問題，作者郭書含 這樣論述：
在液晶平面顯示技術裡，影像殘留向來是此技術被討論的議題之一，過去文獻也有許多探討影像殘留的研究。由於造成影像殘留的影響層面甚廣，以現有市場上量產的液晶面板，其為複合式的元件組成，每一元件的材料、製程及設計都有可能會產生影像殘留。本研究主要針對彩色濾光片上氧化銦錫導電層鍍膜溫度對液晶面板所造成的影像殘留。經由氧化銦錫不同的鍍膜溫度，設計實驗條件，並搭配以面板產業界觀察影像殘留的手法，觀察溫度對彩色光阻所產生的離子效應。
頂置氧化鍚銦結構對複晶矽半穿透半反射式液晶顯示器殘影改善之研究
為了解決顯示器殘影 的問題，作者廖啟宏 這樣論述：
本次論文主要是在探討如何改善半穿透半反射式薄膜液晶顯示器，使用底置氧化鍚銦(Bottom ITO)技術時所產生的殘影問題，分析Bottom ITO 結構的半穿透半反射式面板時發現，其共電壓(Vcom)、閃爍(Flicker)、殘影的表現，都不理想。推測是反射層(鋁)因Cell高溫造成擴散所影響。研究過程中發現，以氧化鍚銦覆蓋反射層(鋁)，則半穿透半反射式薄膜液晶顯示器就無產生影像殘留的現象，因此設計了四種型式的Top ITO 面板，區分為Type A、Type B 、Type C 、Type D 目的都是在阻擋反射層(鋁)與配向膜直接接觸。這四種Top ITO結構，經過可靠度測試的結果，閃爍
(Flicker)、殘影(image sticking)都明顯改善﹝Flicker都在6%以下及GS都小於64﹞。最後製作測試面板，增加反射層的面積，發現Bottom ITO結構的反射層面積大的測試面板在殘影的表現上比反射層面積小的面板更嚴重，這讓研究過程中實驗的數據與造成殘影因素的推測得到了很好的證明，並讓後續的產品設計可以有參考的依據來避免或降低影像殘留現象。