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國立臺北科技大學 能源與冷凍空調工程系 李達生所指導 吳正浩的 應用PyTorch神經網路於影像辨識之空調與照明控制 (2021),提出電源供應器推薦2021關鍵因素是什麼,來自於影像辨識、YOLO、PyTorch、物聯網。

而第二篇論文明志科技大學 材料工程系碩士班 彭坤增所指導 李儀賢的 深共熔溶液體添加劑對活性碳鍍鋅層電池性質分析 (2021),提出因為有 深共熔溶劑、電鍍鋅、抗壞血酸、菸鹼酸、聚丙烯酸、活性碳、鋅空氣電池的重點而找出了 電源供應器推薦2021的解答。

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除了電源供應器推薦2021,大家也想知道這些:

線上學習新視界——高中篇:台達磨課師深耕高中職STEM課程

為了解決電源供應器推薦2021的問題,作者彭宗平,張錦弘,曾政清 這樣論述:

  網路的發達及資通訊技術的進步,大幅提升線上教學的即時性與互動性。磨課師的發展,開啟新的教育變革。制度化與系統化的規劃、執行與管理,可充分發揮線上教學的優勢,達到更高的學習功效。   「台達電子文教基金會」基於社會公益,創立台達磨課師(DeltaMOOCx)平臺,開設大學自動化及高中職STEM課程,盼能藉線上教學,提升學習成效,消弭城鄉差距,縮小學用落差,培育優秀人才。   本書記錄DeltaMOOCx深耕高中職STEM課程的背景、規劃、執行、管理及實施成效。經由教師訪談,分享製作教材與線上教學經驗;也就平臺運作與課程經營之經驗,討論線上學習對未來高中職教育的影響,並

提出落實磨課師教學的建議。   DeltaMOOCx高中職平臺所製作的STEM課程影片,逾4000支,均經國教院審查通過,確保教學品質及內容詳實正確。教材製作與課程經營,都有統一的規格與運作模式,不僅供學生使用,教師亦可觀摩參考。   COVID-19疫情蔓延,臺灣在2021年5月全面實施線上教學。教育部特別安排DeltaMOOCx與因材網結合,提供高中/高工使用,協助師生「停課不停學」,獲得高度肯定。誠盼本書的出版,讓更多公私部門看見線上教學的影響力,並鼓勵更多優秀教師投入線上教學,提升教育效能。   ▍掃描書中QR Code,即可觀看4,000部課程影片。 推薦人   方新舟(誠

致教育基金會董事長)   李定國(中研院院士)   林崇熙(國家教育研究院院長)   徐建國(建國中學校長)   郭伯臣(教育部資科司司長)   陳力俊(中研院院士)   陳偉泓(前建國中學校長)   彭富源(教育部國教署署長)   程海東(前東海大學校長)   黃榮村(考試院院長)   黃維賢(臺中高工校長)   蘇慧貞(成功大學校長)   鄭董事長說:「教育與環保是我退休後投入回饋社會的主軸」。這本書記載他對數位學習的遠見,也讓我們看到他如何支持團隊來扶持被教育政策拖垮的技職體系。他的堅持及慷慨捐贈是我們後輩要學習效法的地方。彭校長及團隊的超強執行力也令我們佩服,因為他們的努力,臺灣高中

生才能在今年 5、6 月新冠疫情肆虐期間做到「停課不停學」,減少學習損失。誠致教育基金會在 2012年10月推出均一教育平臺,投資一億多後,在2018年讓它獨立成為均一平臺教育基金會,現在是全國使用人數最多的平臺。我個人深深期望,均一跟DeltaMOOCx能一起打群架,讓資源有限的臺灣能成為華文數位學習的領頭羊。——方新舟(誠致教育基金會董事長、誠致科技董事長、均一教育平臺創辦人)   高品質的磨課師不但要有正確教材、優秀老師、高畫質影片並要有線上作業、考試、互動、諮詢及追縱學習狀況的平臺。此書詳述台達磨課師完成此浩大工程的歷程,並提供很多利用此平臺可能要注意的事項及如何使用特別資源如SPO

C。能善用此龐大資源的學子將迅速獲得遠超過傳統學習的知識,為臺灣的敎育開啓了新的一章。——李定國(中研院院士、中山大學研究講座、前中研院物理所所長)   當臺灣社會從威權統治與拚經濟轉為追求公平正義與幸福時,當教育目標從訓練反共復國生力軍轉為鼓勵自主學習與適性發展時,教育資源如何彌補城鄉∕社經∕學習快慢等差異,就成了關鍵議題。台達電子文教基金會資助推動DeltaMOOCx就在此刻發揮裨益教育轉型的重要功能,可謂企業社會責任的典範。隨著學科教學影片日漸完備,期待未來更多企業與有志之士加入,進一步錄製如鄭崇華先生求學時遇到的良師能將物理與化學融合教學,或讓科技與社會對話交會,或讓學子探索百工百業

以適性發展,再創DeltaMOOCx線上教育的新里程碑。——林崇熙(國家教育研究院院長)   如果針對「停課不停學」,要找一套高水平的「超前部署」高中系列課程,那台達的磨課師絕對稱得上是經典。因為從2014年開始規劃,2015年我再回建中服務時開拍,其中的數學科教材就是由本校召集的數學學科中心教師錄製。由於其課程經專業教授審查,邀請高中教師親自教學,並不惜巨資租用電視台的專業錄播室錄製,故品質極佳,深受各界好評。——徐建國(建國中學校長)   台達電子文教基金會於2014年起邀請彭宗平校長推動DeltaMOOCx台達磨課師計畫,結合產官學研資源,建置優質線上學習平臺及教材,包含高中職所需之

數學、物理、化學、生物、地球科學及電機與電子群科等6大核心課程,內容依循課綱,製作謹嚴,且是首個製作技高專業科目數位學習課程的計畫。在COVID-19疫情席捲全臺期間,感謝台達磨課師的全力支援,讓教師能實施線上教學及學生能線上自學。本書記錄計畫推動歷程及教師回饋,對於推動線上學習與製作線上課程極具參考價值。——郭伯臣(教育部資訊及科學教育司司長)   由於新冠疫情,加速了線上教學的推動,很明顯數位科技進步帶來的革新將會成為未來教學的一個重要成分,優質的「磨課師」就特別重要。本書介紹製作高中「磨課師」的理念、方式、過程,著重如何提供便利客製化平臺與其經營,錄製精心設計的高畫質課程,達到更高教學

成效,協助克服許多教育上的難題,將是後疫情時代教學,線上線下、虛實整合成常態情況下,各級學校教育最好的參考。——陳力俊(中研院院士、臺灣聯合大學系統校長、前清華大學校長)   這本書所記錄的不僅是一個教育創新的發展過程,更見證了台達電、學界和官方三方面的資源與人力組合,同心協力,以前瞻的視野和創新的決心,奮力突破各種實務上的困難和政府機構制度及預算上的限制,建立了臺灣磨課師平臺的一個重要典範。對於後疫情時代,教學模式由傳統的實體教學移轉成同步與非同步教學並存的混成學習(blended learning),將是無可避免的趨勢。這本書的出版,以結合SPOC課程的DeltaMOOCx平臺,為臺灣未

來的混成學習教學模式,提出了新的方向與思維。——陳偉泓(前建國中學校長)   DeltaMOOCx台達磨課師是結合產官學研、公私協力的公益平臺。此平臺有專業的課程教材審查機制,並且邀請國家教育研究院、教育部國教署委託之學群科中心資深優良教師,共同錄製高品質之優質課程影片,讓優質老師發揮無遠弗屆的影響力。在後疫情時代中,扮演著數位學習的重要推手,並兼顧差異化與適性學習,透過數位課程弭平城鄉教育資源落差,成就每一個孩子。——彭富源(教育部國民及學前教育署署長)   台達基金會攜手國教署與國教院,建置高中/高工磨課師線上公益平臺,彙集優秀教師團隊,製作優質STEM磨課師課程。經過嚴謹的規劃、製作

、審查,七年來累計推出4,000支教學影片及豐富的練習題,對高中職教育,貢獻卓著。後疫情時代,線上學習將成為重要的學習方式,樂見DeltaMOOCx對未來高中職教育,將發揮更大的影響力。——程海東(前東海大學校長、前伊利諾大學(香檳校區)教授、陽明交通大學特聘講座兼策略長)   COVID-19 後國內外大量使用視訊教學,由大量經驗中可明顯看出,其成效與教材教法息息相關。台達磨課師取法乎上,緊跟有「世界最大學校」名聲的可汗學院之創始精神,並做出更符臺灣現狀及需求的磨課師教材,公私協力,以及台達電無私全力的技術與資源挹注,從大學延續到高中職,令人肅然起敬,相信一定能帶動學習效能的大幅提升。——

黃榮村(考試院院長、前教育部長、前中國醫藥大學校長)   臺中高工受教育部委託擔任電機與電子群科中心多年;2014年經過多次籌備與討論,終於同年8月15日定案,開始MOOCs課程錄製計畫;並透過群科中心辦理相關課程工作坊與研習,同時開始錄製線上課程。課程以電機與電子群科核心課程為主,諸如:基本電學、電子學、機器人微課程…等;目前相關課程於YouTube平臺觀看人數皆已超過百萬人次,顯見效益非凡。茲以實際數據分享讀者,並請讀者能上網觀看指導。特別是在COVID-19肆虐之際,MOOCs線上課程發揮超前部署與引領的功能,台達電子文教基金會真是功不可沒,彭校長的視野也深具前瞻性。謹此致意與推薦,希

望讀者會喜歡。——黃維賢(臺中高工校長)   教育是社會工程的基礎,老師則是建構這個礎石的關鍵。鄭崇華先生是成功大學驕傲的典範校友,而他經常歸功於賴再得教授的教學,對其生涯發展影響深遠。這些感懷使鄭先生念茲在茲、期望能傳承「好老師」的教學,保留好的教材與教法,使無法親炙良師風範的學生也可受益。無論是作為永續產業的創辦人,或者是長期投入資源協助創新的實踐者,這本「台達磨課師」的出版,也反映了鄭先生「常懷感恩之心」的人格與情操,我除了致上崇敬之意,也深信,他的貢獻會更鼓勵大家對優質教育的關切,對未來人才的支持。——蘇慧貞(成功大學校長)  

電源供應器推薦2021進入發燒排行的影片

歡迎收看 2021年8月 電腦選購大補帖(欸?)
這集來跟大家聊聊關於Intel新製程命名以及上個月的一些科技新聞

組裝的部分,這個月整體來說跟7月初狀況差不多
顯卡仍然限組裝,不過供貨跟價格是稍微回穩一些
趕快收看這次的暑假選購分析吧!

0:00 - 快Jing來Discord
2:24 - Intel更新了製程路線圖
4:37 - Arm is RTX ON!
5:37 - 海力士即將量產DDR5顆粒
5:56 - Steam Deck 掌上型遊戲機
6:58 - AMD即將推出RX6600XT顯示卡
7:38 - Ryzen 5000G APU 即將登場! & X570s主機板
8:37 - 電腦零組件當前趨勢
9:20 - 振興5倍券!
9:47 - 常見主流CPU與主機板搭配個人看法(分析見7月精華)
11:00 - 顯示卡當前狀況 & EVGA排隊進度分享
11:54 - 8月 顯示卡市場行情參考
12:37 - RTX30非公顯卡搭配電源懶人包
13:18 - 電源供應器 選購懶人包
15:29 - SSD 選購懶人包
17:02 - 組裝時機分析與個人觀點
19:15 - 閒聊ㄅㄅ

過去的直播精華
2021年7月:https://youtu.be/8jJIw1KiMTM
2021年6月:https://youtu.be/Vbf1jMDr2hk
2021年1月:https://youtu.be/kjT49ouZoXU
2020年12月:https://youtu.be/VQv8F4ncMJc
2020年11月:https://youtu.be/O1763EfjRPI​
2020年10月:https://youtu.be/UFqoHrlzPK0​
2020年9月:https://youtu.be/zgT4OwR5Kmo​
2020年7-8月:https://youtu.be/BOQL4cYQXkA​
2020年6月:https://youtu.be/RmAafpykHVE​
2020年4-5月:https://youtu.be/cGQy-BHsYxo​
2020年3月:https://youtu.be/PzwN22TMdFI​
2020年2月:https://youtu.be/DmFFtCJyz34​
2020年1月:https://youtu.be/xsajOp4IouY​
2019年11月:https://youtu.be/hOAppIm03SI​

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應用PyTorch神經網路於影像辨識之空調與照明控制

為了解決電源供應器推薦2021的問題,作者吳正浩 這樣論述:

本研究利用影像辨識與YOLO(You Only Look Once)模型,偵測人員數量狀況或位置結合物聯網的系統,搭配PyTorch神經網路框架及OPENCV函式庫,實現將影像透過鏡頭解讀出現有影像中所偵測之人員數量與位置,透過所獲取之資料套用至軟體系統內邏輯,適時的調整燈光與小型空調系統的設定。軟體由模型建置訓練開始,在經過數據訓練模型後,使用PyTorch深度學習框架,實際套用至系統內並與硬體架構連結使用,實踐電腦與鏡頭經由YOLOv5s搭配PyTorch判別所需人員與位置,經由ModBus通訊協定方式輸出至DDC控制器,搭配調光控控制模組與0-10V LED驅動器去調整燈光強弱與開關,

控制風機啟停與風速指令,並利用影像辨識的結果去做即時的控制方式與調整適合使用之狀態,已達到舒適與節能之目的。在不同的版本中比較YOLOv4[1]搭配DarkNet與YOLOv5S搭配PyTorch實驗結果下,可得在實際實驗中v5S多出約為2.5%的誤差率,但模型大小與訓練時間v5S版本下可以得到大幅優秀的表現,選擇版本變成使用者在依環境下須面對的問題。

深共熔溶液體添加劑對活性碳鍍鋅層電池性質分析

為了解決電源供應器推薦2021的問題,作者李儀賢 這樣論述:

目錄指導教授推薦書 i口試委員審定書 ii中文摘要 iii英文摘要 v目錄 vii圖目錄 ix表目錄 xiii第一章 序論 11-1 前言 11-2 研究動機 2第二章 理論基礎與文獻回顧 42-1 電鍍鋅 42-1-1鋅的物理性質與化學性質 52-1-2 氯化鋅 62-2 電化學沉積基本原理 62-3 電鍍液體 82-3-1 深共熔溶劑與離子液體比較 82-3-2 深共熔溶劑分類 92-4 電鍍鋅應用 112-5 電鍍鋅鍍層影響 112-5-1電化學結晶過程 122-5-2影響電鍍層的主要因素 142-5-3電流效率與鍍膜厚度 162-6 電鍍

鋅沉積物的不同型態 182-7 添加劑 212-7-1硼酸(boric acid) 212-7-2抗壞血酸 (ascorbic acid, AA) 232-7-3菸鹼酸 (nicotinic acid, NA) 252-7-4聚丙烯酸(Poly acrylic acid, PAA) 282-7-5活性碳(Active carbon, AC) 29第三章 實驗方法與流程 323-1電鍍鋅 323-2 實驗步驟 353-2-1 實驗材料 353-2-2 電鍍液的配置 353-2-3 基板製程前處理 363-2-4 電鍍系統製程步驟 373-2-5 鋅空氣電池製程步驟

373-3 實驗參數 393-4製程及檢測儀器 423-4-1製程儀器 423-4-2 檢測儀器 44第四章 結果與討論 574-1 最佳化電鍍鋅金屬之溫度與電流密度 574-1-1 表面分析形貌(SEM) 584-1-2 粗糙度分析 654-1-3 XRD分析 674-1-4 耐腐蝕性質分析(I-V Curve) 754-1-5 小結 794-2 添加不同添加劑達到抗腐蝕能力提升 814-2-1 表面分析形貌(SEM) 814-2-2 粗糙度分析 874-2-3 耐腐蝕性質分析(I-V Curve) 904-2-4 XRD分析 954-2-5 硬度分析 10

04-2-6 電流效率及厚度分析 1034-3 抗壞血酸與菸鹼酸相互最佳化參數探討 1064-3-1 表面分析形貌(SEM) 1064-3-2 粗糙度分析 1064-3-3 耐腐蝕性質分析(I-V Curve) 1074-3-4 XRD分析 1084-3-5 硬度分析 1104-3-6 電流效率及厚度分析 1114-3-7 小結 1134-4 複合式電鍍鋅與活性碳並運用在鋅空氣電池上 1154-4-1 X射線能量散布成分分析 1154-4-2 耐腐蝕性質分析(I-V Curve) 1254-4-3 比表面積與孔隙分佈分析 1264-4-4 循環伏安法(Cyclic V

oltammetry, CV) 131第五章 結論 134第六章 未來展望 137參考文獻 138圖目錄圖2-2-1 電鍍系統示意圖 7圖2-3-1 ILs與DES差異 8圖2-3-2深共熔溶劑共熔後熔點特性 10圖2-3-3 DES1和DES2深共熔溶劑熱重分析 10圖2-5-1電化學結晶過程示意圖 13圖2-6-1電化學沉積中獲得的鋅金屬沉積物示意圖 19圖2-6-2隨機取向的板狀性結構如同花冠狀結構鋅鍍層(A)室溫下電鍍(B)50°C下電鍍的表面形貌 20圖2-6-3深灰色鋅沉積物薄片片狀結構鋅鍍層(A)75°C下電鍍(B)100°C下電鍍的表面形貌 20圖2-7

-1硼酸的穩定pKa值 22圖2-7- 2硼酸在電沉積過程對於電位影響 22圖2-7- 3抗壞血酸在Zn-Ni與Zn-Ni-Fe特性比較SEM圖:(a)無添加抗壞血酸表面SEM圖像,(b)無添加抗壞血酸橫截面SEM圖像,(c)添加抗壞血酸表面SEM圖像,(d)添加抗壞血酸橫截面SEM圖像。 23圖2-7-4抗壞血酸在Zn-Ni的表面粗糙度:(a)無添加抗壞血酸二維輪廓,(b)無添加抗壞血酸粗糙度,(c)添加抗壞血酸二維輪廓,(d)添加抗壞血酸粗糙度。 24圖2-7- 5不同添加劑在 Cu電極上在80°C下進行2小時電鍍鋅:(a)不含添加劑,(b)菸鹼酸,(c)硼酸,(d)苯醌。 26

圖2-7- 6菸鹼酸添加劑的 Zn 沉積物的 SEM圖:(a)無添加的SEM圖,(b)無添加之截面圖,(c)添加NA的SEM圖,(d)添加NA之截面圖。 27圖2-7-7 Graft Fast的新型共鍍技術使用PAA添加劑在ABS基板表面電鍍銅金屬 29圖2-7-8 無活性碳與有活性碳電鍍鉛金屬交流電極在5molL-1 H2SO4 溶液中從0.7V到1.2V循環伏安圖 30圖2-7-9 活性碳與鉛金屬電鍍的SEM和EDS圖像:(a)SEM圖像,(b)C的EDS圖像,(c)O的EDS圖像,(d)Pb的EDS圖像。 31圖3-1-1實驗詳細流程示意圖 34圖3-2-1鋅空氣電池結構示意圖

38圖3-2-2鋅空氣電池製作方式結構圖 38圖3-4-1 電磁加熱攪拌器 42圖3-4-2 雙組直流電源供應器 43圖3-4-3 布拉格定律示意圖 45圖3-4-4 X-ray 繞射分析儀 45圖3-4-5 掃描式電子顯微鏡結構圖 46圖3-4-6 電子束轟擊試片表面所產生之訊號 48圖3-4-7 恆電位儀 50圖3-4-8 典型循環伏安圖 50圖3-4-9 極化曲線、塔佛斜率示意圖 51圖3-4-10 SJ-210工作示意圖 52圖3-4-11 表面粗度測定儀 52圖3-4-12 Knoop硬度機 54圖3-4-13 氮氣吸脫附曲線 55圖3-4-14 比表

面積數據 56圖4-1-1 (a-e)鍍液溫度40°C、0.1-0.5ASD(間隔0.1ASD)之SEM圖 60圖4-1-2 (a-e)鍍液溫度50°C、0.1-0.5ASD(間隔0.1ASD)之SEM圖。 61圖4-1-3 (a-e)鍍液溫度60°C、0.1-0.5ASD(間隔0.1ASD)之SEM圖。 62圖4-1-4 (a-e) 鍍液溫度70°C、0.1-0.5ASD(間隔0.1ASD)之SEM圖。 63圖4-1-5 (a-e) 鍍液溫度80°C、0.1-0.5ASD(間隔0.1ASD)之SEM圖。 64圖4-1-6 鍍液溫度40°C-80°C電流密度0.1-0.5ASD之表

面粗糙度圖 66圖4-1-7 0.1-0.5ASD鍍液溫度40°C XRD繞射圖譜 69圖4-1-8 0.1-0.5ASD鍍液溫度 50°C XRD繞射圖譜 69圖4-1-9 0.1-0.5ASD鍍液溫度60°C XRD繞射圖譜 70圖4-1-10 0.1-0.5ASD鍍液溫度70°C XRD繞射圖譜 70圖4-1-11 0.1-0.5ASD鍍液溫度80°C XRD繞射圖譜 71圖4-1-12 鍍液溫度40°C 0.1ASD-0.5ASD平均晶粒尺寸圖 73圖4-1-13 鍍液溫度50°C 0.1ASD-0.5ASD平均晶粒尺寸圖 73圖4-1-14鍍液溫度60°C 0.1AS

D-0.5ASD平均晶粒尺寸圖 74圖4-1-15鍍液溫度70°C 0.1ASD-0.5ASD平均晶粒尺寸圖 74圖4-1-16鍍液溫度80°C 0.1ASD-0.5ASD平均晶粒尺寸圖 75圖4-1-17鍍液溫度40 °C電流密度0.1 ASD - 0.5 ASD的極化曲線 76圖4-1-18鍍液溫度50 °C電流密度0.1 - 0.5 ASD的極化曲線 77圖4-1-19鍍液溫度60 °C電流密度0.1 - 0.5 ASD的極化曲線 77圖4-1-20鍍液溫度70 °C電流密度0.1 - 0.5 ASD的極化曲線 78圖4-1-21鍍液溫度80 °C電流密度0.1 - 0.5

ASD的極化曲線 78圖4-2-1不同抗壞血酸克數固定鍍液溫度80°C電流密度0.1ASD的SEM圖:(a)0.5g,(b)1g,(c)1.5g,(d)2g,(e)2.5g,(f)3g。 84圖4-2-2不同菸鹼酸克數固定鍍液溫度80 °C電流密度0.1ASD的SEM圖 :(a)0.5g,(b)1g,(c)1.5g,(d)2g,(e)2.5g,(f)3g。 84圖4-2-3以不同的電流密度添加抗壞血酸2.5g及固定鍍液溫度80°C的SEM圖:(a)0.1ASD,(b) 0.2ASD,(c) 0.3ASD,(d) 0.4ASD,(e) 0.5ASD。 85圖4-2-4以不同的電流密度添

加菸鹼酸1.5g及固定鍍液溫度80°C的SEM圖:(a)0.1ASD,(b) 0.2ASD,(c) 0.3ASD,(d) 0.4ASD,(e) 0.5ASD。 85圖4-2-5在倍率1K下觀看抗壞血酸2.5g電流密度0.3ASD的SEM圖(a)2-6章節花冠狀結構10k倍率(b)10k倍率 86圖4-2-6 添加抗壞血酸及菸鹼酸的平均表面粗糙圖:(A)固定在80°C電流密度0.1做抗壞血酸變量,(B)固定在80 °C電流密度0.1做菸鹼酸變量(C)固定抗壞血酸2.5g及80 °C做電流密度的變量,(D)固定菸鹼酸1.5g及80 °C做電流密度的變量。 88圖4-2-7 分別添加2.5g抗

壞血酸及1.5g菸鹼酸的平均表面粗糙度比較圖 89圖4-2-8 固定在80 °C電流密度0.1ASD添加抗壞血酸及菸鹼酸的耐腐蝕性質分析:(A)改變抗壞血酸添加量分析耐腐蝕性質,(B) 改變菸鹼酸添加量分析耐腐蝕性質。 92圖4-2-9 固定在80 °C添加抗壞血酸2.5g及菸鹼酸1.5g改變電流密度的耐腐蝕性質分析:(A)抗壞血酸2.5g不同電流密度分析耐腐蝕性質,(B) 菸鹼酸1.5g不同電流密度分析耐腐蝕性質。 93圖4-2-10 固定在80°C添加抗壞血酸2.5g及菸鹼酸1.5g改變電流密度的耐腐蝕性質分析比較 94圖4-2-11 80 °C 抗壞血酸2.5g 0.1ASD-0

.5ASD繞射圖譜 98圖4-2-12 80 °C 菸鹼酸1.5g 0.1ASD-0.5ASD繞射圖譜 98圖4-2-13 80 °C 抗壞血酸2.5g 0.1ASD-0.5ASD平均晶粒尺寸 99圖4-2-14 80 °C 菸鹼酸1.5g 0.1ASD-0.5ASD平均晶粒尺寸 99圖4-2-15 80 °C 抗壞血酸2.5g 0.1ASD-0.5ASD平均硬度 101圖4-2-16 80 °C 菸鹼酸1.5g 0.1ASD-0.5ASD平均硬度 101圖4-2-17 80 °C 抗壞血酸2.5g 0.1ASD-0.5ASD平均硬度與平均晶粒尺寸的比較 102圖4-2-18 8

0 °C 菸鹼酸1.5g 0.1ASD-0.5ASD平均硬度與平均晶粒尺寸的比較 102圖4-2-19在不同電流密度下無添加劑、添加菸鹼酸(NA)、添加抗壞血酸(AA)電流效率比較圖 104圖4-2-20 固定在80 °C 0.3ASD添加抗壞血酸2.5g及菸鹼酸1.5g膜層厚度SEM剖面比較圖 105圖4-3-1以最佳化添加劑含量抗壞血酸2.5g及菸鹼酸1.5g的電鍍鋅金屬SEM圖:(a)5k倍率,(b)10k倍率。 106圖4-3-2 分別添加抗壞血酸(AA)、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)的電鍍鋅金屬粗糙度分析比較圖 107圖4-3-3 分別添加抗壞血酸(AA)

、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)的電鍍鋅金屬極化曲線分析比較圖 108圖4-3-4 分別添加抗壞血酸(AA)、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)在電鍍鋅金屬繞射圖譜分析圖 109圖4-3-5 分別添加抗壞血酸(AA)、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)的平均晶粒尺寸比較分析圖 110圖4-3-6 分別添加抗壞血酸(AA)、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)的平均硬度值比較分析圖 111圖4-3-7 分別添加抗壞血酸(AA)、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)的電流效率比較圖 112圖4-4-1 添加PAA添加劑電鍍鋅與活

性碳EDS成分分析圖 116圖4-4-2 添加1mL的PAA電鍍鋅與活性碳EDS成分分析圖 118圖4-4-3 添加5mL的PAA電鍍鋅與活性碳EDS成分分析圖 118圖4-4-4 添加10mL的PAA電鍍鋅與活性碳EDS成分分析圖 119圖4-4-5 添加15mL的PAA電鍍鋅與活性碳EDS成分分析圖 119圖4-4-6 添加20mL的PAA電鍍鋅與活性碳EDS成分分析圖 120圖4-4-7 添加30mL的PAA電鍍鋅與活性碳EDS成分分析圖 120圖4-4-8 添加0.1g活性碳與鋅電鍍EDS成分分析圖 121圖4-4-9 添加0.5g活性碳與鋅電鍍EDS成分分析圖 12

1圖4-4-10 添加1g活性碳與鋅電鍍EDS成分分析圖 122圖4-4-11 添加1.5g活性碳與鋅電鍍EDS成分分析圖 122圖4-4-12 添加2g活性碳與鋅電鍍EDS成分分析圖 123圖4-4-13 添加2.5g活性碳與鋅電鍍EDS成分分析圖 123圖4-4-14 添加PAA與活性碳的鋅電鍍碳含量原子比例EDS成分分析圖 124圖4-4-15 AA、NA、Carbon、Carbon AA+NA的塔弗極化曲線 125圖4-4-16 電鍍鋅金屬的氮氣吸脫附曲線 127圖4-4-17 複合式電鍍鋅金屬與活性碳的氮氣吸脫附曲線 128圖4-4-18 電鍍鋅金屬的比表面積數據圖

129圖4-4-19 複合式電鍍鋅金屬與活性碳的比表面積數據圖 130圖4-4-20 電鍍鋅金屬的循環伏安法分析圖 132圖4-4-21 複合式電鍍鋅金屬與活性碳的循環伏安法分析圖 133表目錄表2-1常見金屬之電化當量 16表3-1實驗藥品介紹 35表3-2試片規格介紹 35表3-3電鍍時之電流密度、溫度參數 40表3-4電鍍鋅添加抗壞血酸與菸鹼酸添加劑參數 40表3-5複合式電鍍活性碳與鋅金屬添加劑參數 41表4-1 40°C~80°C、0.1ASD~0.5ASD平均半高寬 72表4-2 添加抗壞血酸及菸鹼酸-耐腐蝕性分析比較數值 94表4-3 80 °C 抗壞血酸

2.5g 0.1ASD-0.5ASD峰值、半高寬、晶粒尺寸 96表4-4 80 °C 菸鹼酸1.5g 0.1ASD-0.5ASD峰值、半高寬、晶粒尺寸 97表4-5 分別添加抗壞血酸(AA)、菸鹼酸(NA)、抗壞血酸及菸鹼酸(AA+NA)在電鍍鋅金屬峰值、半高寬、晶粒尺寸 109