記憶體未來趨勢的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列懶人包和總整理

實戰Linux系統數位鑑識

為了解決記憶體未來趨勢的問題，作者BruceNikkel 這樣論述：

　　這是一本深入探討如何分析遭受破壞之Linux系統的書籍。你可以藉由本書瞭解如何鑑識Linux桌面、伺服器與物聯網裝置上的數位證據，並在犯罪或安全事件發生後重建事件的時間線。    　　在對Linux操作系統進行概述之後，你將學習如何分析儲存、火力系統和安裝的軟體，以及各種發行版的軟體套件系統。你將研究系統日誌、systemd日誌、核心和稽核日誌，以及守護程序和應用程序日誌。此外，你將檢查網路架構，包括接口、位址、網路管理員、DNS、無線裝置、VPN、防火牆和Proxy設定。    　　．如何鑑識時間、地點、語言與鍵盤的設定，以及時間軸與地理位置  　　．重構Linux的開機過程，從系統

啟動與核心初始化一直到登入畫面  　　．分析分割表、卷冊管理、檔案系統、目錄結構、已安裝軟體與與網路設定  　　．對電源、溫度和物理環境，以及關機、重新開機和當機進行歷史分析  　　- 調查用戶登錄會話，並識別連結周邊裝置痕跡，包括外接硬碟、印表機等    　　這本綜合指南是專為需要理解Linux的調查人員所編寫的。從這裡開始你的數位鑑證之旅。 

記憶體未來趨勢進入發燒排行的影片

二氧化鈦薄膜的電阻轉換特性於記憶體的應用

為了解決記憶體未來趨勢的問題，作者賴承甫 這樣論述：

隨著數位時代的來臨，大量的電子資訊急需以更有效率的儲存與讀取方式以因應，非揮發發性記憶體便在儲存數位資訊扮演關鍵性角色，開發下一世代非揮發性記憶體成為當代最迫切的課題。過去隨著CMOS製程技術的持續進步，雖能暫時性的滿足資料儲存的需求，但是近年來，數位資訊膨脹的速度已遠遠超越半導體製程進步的速度，尤其在影音資訊上，Full-HD影片已經問世，傳統可攜式非揮發性產品將面臨儲存容量之瓶頸。所以開發具備高容量儲存優勢的元件，如3D堆疊交錯點結構，是學術界與產業界一致的目標，過去利用地表大量可得的矽沙成為半導體工業的主要原料，現在也將尋找具備便宜且豐富的材料為替代品，其中鈦為地殼上含量第9高的元素

(0.63%)，其性質穩定，在現階段半導體製程鈦金屬已成為不可或缺的一角，從研究發現，鈦金屬氧化物可望成為電阻式記憶體的原料。本研究透過高溫氧化爐管，對厚度為100nm金屬鈦薄膜加熱至575℃，通入純氧並持溫15分鐘後，金屬鈦薄膜經氧化反應轉變成金紅石(Rutile-phase) 結構的二氧化鈦 (TiO2)，此後利用金屬光罩蒸鍍直徑分別為150μm與250μm尺寸的上電極。待元件製作完成之後，透過特定的直流偏壓掃描，原處於高電阻阻態的薄膜，可在穩定的電壓區間，轉成低電阻阻態，且具有正負極性皆可轉態的特點。記憶力的測試亦是本研究的重點，分別量測兩種尺寸的元件是否經過電壓掃描仍保持穩定性，由實驗

數據分析，以TiO2 為電阻轉態層之薄膜，在高低電阻阻態均相當穩定，記憶力可超過6×106秒而無衰退現象。因該電阻式記憶體之三明治結構利於以3D堆疊提高集積密度，因此本研究之元件可應用於需高度集積化之非揮發性可編程式唯讀記憶體。

今晚來點Web前端效能優化大補帖：一次搞定指標×工具×技巧，打造超高速網站(iThome鐵人賽系列書)

為了解決記憶體未來趨勢的問題，作者莫力全KyleMo 這樣論述：

針對「前端效能優化」技巧最全面的中文書籍！   精通前端基礎和優化技術，為你打造高效能網站！   　　本書內容改編自第 13 屆 2021 iThome 鐵人賽，Modern Web 組冠軍網路系列文章──《今晚，我想來點 Web 前端效能優化大補帖！》。本書彙整了網頁前端應用效能優化的各種技巧，並以此為出發點，延伸至許多前端領域必備的知識。搭配簡易圖文和範例檔實作，讓你打造高效能的前端應用，解決網站效能痛點，提升速度與使用者體驗，增加網站曝光率與流量！   　　四大重點   　　▍小細節讓效能UP 　　除了依賴指標，還要從對的地方著手！   　　▍前端開發必備心法 　　用對優化工具和技術

，提升效能&使用者體驗。   　　▍深入技術原理 　　介紹前端技術原理，精通前端應用知識。   　　▍提供完整範例檔 　　跟著實作範例學習，強化前端優化技能！   　　精彩內容   　　●認識 Core Web Vitals、RAIL Model、Lighthouse 等指標和效能監測工具，找出效能不足的地方。   　　●建立前端必備知識：瀏覽器架構與渲染流程、網路與快取、JavaScript 記憶體管理機制，並學習正確的圖片資源、檔案壓縮與打包技術。   　　●在不同情境下使用正確的優化技術：Code Splitting、動態載入、Tree Shaking、模組化技巧、Web Wor

kers 與 WebAssembly。   　　●使用 DevTool 檢測網站效能、實作 Debounce 與 Throttle，達到網站節流。   　　目標讀者 　 　　✦想要了解各種效能優化技巧的前端開發者 　　✦想要更理解前端開發底層知識的開發者 　　✦想了解前端開發近期發展與未來趨勢的讀者   專業推薦   　　「不論是剛入門的工程師或者資深工程師，都可以在這本書得到不同階段的啟發並且應用在實戰當中。」──── Verybuy Fashion 資深前端技術總監│Bingo Yang   　　「作者將業界所交流的各式各樣經驗，在這本書中一次性地統整起來，不僅僅只是教你效能優化的技巧，甚

至帶著你從歷史淵源、使用者面向、網路傳輸、渲染機制等不同角度來看效能。」──── 適才科技技術長 & Web 實驗室社群發起人│KK   　　「前端領域的發展十分迅速，很難得有作者用心將這些知識整理成書，帶領讀者從發現問題開始，了解背後原因與需求、實作練習，以及在每章節附上延伸學習的資源。」──── Design engineer@PicCollage│Lichin   　　「這本書深入淺出說明效能優化的各道題目，篇篇精彩有趣。除了從遠古到現今的技術解析和優劣比較，並且圖文並茂、附上實戰實例，讀起來讓人欲罷不能。」────《 打造高速網站從網站指標開始 》、技術部落格「Summer。桑

莫。夏天」作者│Summer　　

非揮發性奈米晶體記憶體之研製

為了解決記憶體未來趨勢的問題，作者陳忠慶 這樣論述：

現今非揮發性奈米晶體記憶體被廣泛的研究來克服傳統浮動閘極記憶體的極限，利用奈米晶體記憶體可以克服傳統浮動閘極記憶體在元件尺寸不斷微縮時遇到的電荷流失問題。奈米晶體記憶體可容許更薄的穿隧氧化層、更低的操作電壓及更好的電荷保存能力。然而過去發展了許多方法來形成奈米晶體，大多數的方法都需要長時間及高溫的熱製程，這個方法會影響現階段半導體製程的熱預算和產能。本文中，我們使用了高密度電漿化學氣相沉積系統中，以氫電漿蝕刻法在矽晶片上蝕刻出奈米晶體以及一個簡單、快速熱退火製程用來形成奈米晶體與微波退火製程方法，並應用於非揮發性記憶體中。我們使用高密度電漿化學氣相沉積系統中以氫電漿蝕刻法蝕刻出奈米晶體來增進

記憶體的記憶窗口。一個快速熱退火製程來增進奈米晶體的結晶性和記憶體的可靠度，熱處理製程可以減少缺陷的產生且氧化矽包覆奈米晶體作為電荷儲存層有比較大的記憶窗口和較佳的可靠度。為了避免高溫製程所產生的熱預算，微波退火製程的溫度相當低，不超過320℃，從我們的實驗證明微波退火製程可得到足夠大的記憶體窗口及很好的資料保存等特性。此外，微波退火應用在非揮發性記憶體的製程技術，同時也適用於現階段積體電路製程中。