薄膜技術與薄膜材料的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列懶人包和總整理

看圖讀懂半導體製造裝置

為了解決薄膜技術與薄膜材料的問題，作者菊地正典 這樣論述：

　　清華大學動力機械工程學系教授 羅丞曜  審訂 　　得半導體得天下？ 　　要想站上世界的頂端，就一定要了解什麼是半導體！ 　　半導體可謂現在電子產業的大腦，從電腦、手機、汽車到資料中心伺服器，其中具備的智慧型功能全都要靠半導體才得以完成，範圍廣布通信、醫療保健、運輸、教育等，因此半導體可說是資訊化社會不可或缺的核心要素！ 　　半導體被稱為是「產業的米糧、原油」，可見其地位之重要 　　臺灣半導體產業掌握了全球的科技，不僅薪資傲人，產業搶才甚至擴及到了高中職！ 　　但，到底什麼是半導體？半導體又是如何製造而成的呢？ 　　本書詳盡解說了製造半導體的主要裝置，並介紹半導體

所有製程及其與使用裝置的關係，從實踐觀點專業分析半導體製造的整體架構，輔以圖解進行細部解析，幫助讀者建立系統化知識，深入了解裝置的構造、動作原理及性能。

薄膜技術與薄膜材料進入發燒排行的影片

反應濺鍍磊晶ZrC薄膜緩衝層於(100)矽晶片之製備及其應用於鑽石成核之研究

為了解決薄膜技術與薄膜材料的問題，作者陳暐佳 這樣論述：

摘要 iABSTRACT iii致謝 vi目次 viii圖目次 xi表目次 xv第一章 緒論 1參考文獻 4第二章 文獻回顧 62.1 碳化鋯與鑽石之基本性質 62.1.1 碳化鋯之基本性質 62.1.2 鑽石之基本性質 92.2 碳化鋯的成長與應用 112.2.1 熱蒸鍍法(Thermal Evaportion , TE) 122.2.2 濺鍍法(Sputtering Deposition) 132.2.3 脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition , PLD) 142.2.

4 化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD) 162.2.5 碳化鋯的應用 192.3 反應式磁控濺鍍原理 202.4 鑽石的成長與應用 242.4.1 化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition , CVD) 242.4.2 微波電漿化學氣相沉積(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition , MPCVD) 252.4.3 鑽石的應用 272.5 薄膜成長 292.5.1 異質磊晶成長 322.5.2 晶域匹配磊晶成長 (Domain Ma

tching Epitaxy，DME) 352.6 輔助鑽石成核的方法 362.6.1 刮痕法 (Scratching) 362.6.2 種植法 (Seeding) 372.6.3 鍍層法 (Coating) 372.6.4 偏壓輔助成核 (Bias-Enhanced Nucleation, BEN) 37參考文獻 38第三章 實驗流程與設備 453.1 薄膜成長技術及實驗設備 453.1.1 反應式直流磁控濺鍍系統 453.1.2 微波電漿化學氣相沉積系統 503.1.3 試片載台 553.2 實驗流程 563.2

.1 ZrC成長製程步驟 563.2.2 鑽石的沉積製程步驟 593.3 分析設備 623.3.1 X光繞射儀 (X-ray Diffractometer，XRD) 623.3.2 掃描式電子顯微鏡 (Scanning Electron Microscope，SEM) 653.3.3 原子力顯微鏡 (Atomic Force Microscope，AFM) 663.3.4 四點探針 (Four-Point Probe) 683.3.5 X光光電子能譜儀 (X-ray Photoelectron Spectrometer，XPS) 693.3.6

聚焦離子束 (Focused Ion Beam，FIB) 713.3.7 穿透式電子顯微鏡/掃描穿透式電子顯微鏡 (TEM / STEM) 723.3.8 拉曼光譜儀(Raman Spectroscopy) 74參考文獻 75第四章 反應式磁控濺鍍ZrC磊晶薄膜 774.1 甲烷比例效應 774.1.1 XRD分析 784.1.2 AFM表面形貌及電性分析 844.1.3 XPS元素定量與鍵結分析 864.2 濺鍍時間效應 904.2.1 XRD分析 904.2.2 AFM表面形貌及電性分析 924.3 壓力效應 9

44.3.1 XRD分析 944.3.2 AFM表面形貌及電性分析 974.4 TEM/STEM分析 984.5 本章綜合結果與討論 104參考文獻 106第五章 鑽石膜成核與成長 1075.1 積碳 1075.2 偏壓輔助成核條件之影響 1085.2.1 甲烷比例對成核之影響 1085.2.2 偏壓時間對成核之影響 1125.3 本章綜合結果與討論 115第六章 結論 1166.1 濺鍍ZrC磊晶薄膜 1166.2 鑽石偏壓輔助成核 1166.3 未來建議與展望 117附錄一 XRD Database

(Powder) 118附錄二 XPS 鍵結能 119

護眼，從用對光開始：防3C藍害專家教你保護眼睛的終極秘笈

為了解決薄膜技術與薄膜材料的問題，作者周卓煇 這樣論述：

藍光到底是什麼？竟會掀起「藍害疫情」？ 燈光、螢幕到底要多亮才夠？ 你的防藍光產品真的有效嗎？OLED產品是轉機？ 仰賴3C產品的現代，小孩與大人該怎麼護眼？ 好光解密X護眼對策X健康新知 專業光電學家不藏私分享畢生絕學 在每3人就有1人近視的世代，誰眼睛好，誰就是贏家！ 本書詳解三大絕招──減亮、去藍、縮時 告訴你如何搭配日常實踐，護眼也護身！ 「藍害疫情」已來到，須即刻展開「護眼行動」！ ◆藍光傷眼，無所不在的殺手 拜科技之賜，我們有了方便的通訊設備，沒想到這些設備的光線長期使用後，卻會造成眼睛不可逆的傷害，連年輕人也沒有例外。所謂的「藍光」到底是什麼？又該怎麼辨認？ ◆

好光護眼，趁還來得及 不同的人，有非常不同的照度需求，這代表有許多因素，會影響我們看書、看3C的「適讀亮度」，並不是一般認為的「越亮越好」，還要以「多休息」、「少藍」、「減亮」三個護眼行動，才能減緩此等嚴峻的「國安問題」。 ◆專家解說，聰明選擇真正有效的護眼用品 為避免將要用一輩子的視力，提前用罄，全球人類迫切想保護自己眼睛，抗藍光相關的產品、技術，有極大商機。市面上標榜「護眼」的商品、食品更是百百種，到底這些產品有無功效，能夠阻擋多少損害，讓光電專家解釋給你聽。 喪失「視界」，如此可怕的事情，已像核彈級的海嘯一般，席捲而來，全球受害人口與比率，都正在快速上升中。 這一次，我們要面對的敵人

，不是病毒，而是自己的壞習慣，唯有認清事實，及早遠離既有或正在養成的壞習慣，才能贏得這次的大戰！ 司馬庫斯頭目 Masay Sulung（馬賽穌隆） 國立臺北科技大學校長 王錫福 九八新聞台「財經一路發」主持人 阮慕驊 作家 吳淡如 竹科科技生活雜誌社長 林芝華 新竹市曙光女中校長 姚麗英 新竹市曙光女中動手做科學社老師 周明麗 天來創新集團董事長 陳來助 專業媒體人 陳鳳馨 IC之音竹科廣播電台副總經理 郭蘭玉 台大新竹分院眼科部主任醫師 葉伯廷 中廣公司董事長 趙少康 全方位媒體人、飛碟聯播網「生活同樂會」節目主持人 蕭彤雯 熱情推薦  

濺鍍黑化層與導電銅層於透明聚亞醯胺薄膜 之特性研究

為了解決薄膜技術與薄膜材料的問題，作者金士捷 這樣論述：

本研究將透明聚亞醯胺薄膜表面濺鍍一層抗反射層(黑化層，CuNiOx)及導電銅層，黑化層使用銅鎳合金靶進行直流反應性濺鍍，氧氣和氬氣作為反應氣體和工作氣體，為了改善黑化層與透明聚亞醯胺之剝離強度與光學性質，實驗設計改變濺鍍功率、氣體流量、鍍層厚度等參數，研究其與剝離強度之關係。聚亞醯胺薄膜之金屬化薄膜將由掃描式電子顯微鏡(SEM)、傅里葉變換紅外光譜儀(FTIR)、X光光電子能譜儀(XPS)、紫外光/可見光光譜儀(UV-Vis)、薄膜厚度輪廓測量儀(α-step)、白光干涉儀(WLI)、熱機械分析儀(TMA)、熱重分析儀(TGA)及90°剝離試驗機(Peeling Tester)等設備鑑定其化

學結構與特性，探討製程參數對透明聚亞醯胺金屬化之薄膜表面形態、電性、光學、熱及機械性質及界面剝離強度之影響。實驗結果指出藉由濺鍍黑化層能明顯降低材料的反射率( R% < 15% )，在高濺鍍功率和低氧氣流量下能達到高剝離強度與低反射率。在接著信賴性測試中150 ℃老化24小時，剝離強度有上升的趨勢，以白光干涉儀與SEM分析老化後PI表面形貌之差異。在PI上以不同濺鍍功率沉積黑化層，可以觀察到功率225 W時水氣穿透率為4.023 g-mil/m2 - day，當濺鍍功率越高，其水氣穿透率則下降，在功率450 W 下濺鍍黑化層，其水氣透過率降低至 1.505 g-mil / m2 - day，濺

鍍功率越高鍍層越緻密，緻密的鍍層具有較佳的阻隔水氣的效果。