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中原大學 環境工程學系 王雅玢、游勝傑所指導 高子珺的 半導體及光電業揮發性有機化合物排放之研究 （2021），提出晶圓盒材質關鍵因素是什麼，來自於揮發性有機物、半導體、光電業、排放係數。
而第二篇論文國立臺北科技大學 能源與冷凍空調工程系 胡石政所指導 趙翌宇的 應用於高流量層流氣簾裝置開發 （2020），提出因為有 晶圓傳送盒 (FOUP）、層流氣簾裝置(Laminar Air Curtain)、高流量的重點而找出了 晶圓盒材質的解答。
半導體及光電業揮發性有機化合物排放之研究
為了解決晶圓盒材質 的問題，作者高子珺 這樣論述：
半導體及光電業為我國重要產業之一，於環保署統計資料中，2019年半導體產業及光電產業之揮發性有機物污染申報量分別為33670.62公噸及27651.71公噸，因此本研究針對半導體及光電業揮發性有機物的定檢報告進行分析，利用檢測資料及許可資料綜整揮發性有機物排放濃度、排放量、相關防制設備、並計算其排放係數。研究結果顯示，半導體產業之揮發性有機物排放濃度範圍為1~147ppm，約91.7%的排放濃度低於22ppm，濃度大於22ppm的製程出現於二極體製程以及積體電路製造程序；光電業之揮發性有機物排放濃度範圍為1~18ppm，大於10ppm的製程為其他光電材料及元件製造程序。研究利用檢測報告之濃度
以及排氣量計算其排放量，結果顯示半導體業之揮發性有機物排放量範圍為0.0010~2.7189kg/hr，97.7%的排放量符合法規0.6kg/hr要求，大於0.6kg/hr的製程同樣為二極體製程以及積體電路製造程序；光電業之揮發性有機物排放量範圍為0.0005~0.9628kg/hr，99.2%符合法規0.4kg/hr要求，僅一筆數據(其他光電材料及元件製造程序)大於0.4kg/hr。在半導體和光電業中，常見防制設備為洗滌塔、吸附設備、沸石濃縮轉輪、焚化設備等，半導體業約30%為使用沸石濃縮轉輪，27%使用洗滌塔、16%使用吸附設備，而光電業之防制設備有61%使用洗滌塔，其他約3~7%分別使用
吸附設備、沸石濃縮轉輪、焚化設備等防制設備。半導體業防制設備的排放量與排放濃度為高度相關，乾基排氣量與排放量的相關性為弱相關或無相關。研究結果顯示：洗滌塔之排放濃度與排放量相關性係數為0.9616、吸附設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8809、沸石濃縮轉輪之排放濃度與排放量相關性係數為0.4906、沸石濃縮轉輪+焚化設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.8457。光電產業洗滌塔之排放濃度與排放量相關性係數為0.6618、吸附設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.7797、沸石濃縮轉輪之排放濃度與排放量相關性係數為0.4459、沸石濃縮轉輪+焚化設備之排放濃度與排放量相關性係數為0.817
5。於排放係數計算部分，半導體之二極體製程平均排放係數為23.106kg/m2，此為一家廠商兩筆數據之平均結果，但兩筆數據中，一筆為8.8988kg/m2，低於法規10.2kg/m2，另一筆數據為37.3135kg/m2，大於法規標準；積體電路製程平均排放係數為2.324kg/m2，略高出法規值2.24kg/m2；光電業之液晶顯示器製程排放係數結果為0.0003 kg/m2，低於法規0.18 kg/m2之標準，上述結果顯示製程操作及防制設備操控上仍有可再精進之空間。
應用於高流量層流氣簾裝置開發
為了解決晶圓盒材質 的問題，作者趙翌宇 這樣論述：
摘要 iABSTRACT iii致謝 v目錄 vi表目錄 ix圖目錄 x第一章 緒論 11.1 研究背景及動機 11.2 潔淨室定義 21.2.1 潔淨室規範 21.2.2 潔淨室的分類 51.2.3 潔淨室應用範圍 81.3 氣態分子汙染物 81.4 設備前端模組 101.4.1 晶圓卸載機組做動過程 101.5 層流氣簾裝置 111.5.1 層流氣簾裝置簡介 131.6 文獻回顧 151.7 研究目的 17第二章 實驗設備與儀器 182.1 實驗環境 182.1.1 潔淨空調實驗室 182.1.2 微環境(Mi
ni-Environment) 192.2 實驗設備 202.2.1 潔淨乾燥空氣系統(Clean Dry Air, CDA) 202.2.2 超音波清洗系統 202.2.3 真空系統 212.2.4 質量流量控制器 212.2.5 層流氣簾裝置(Laminar Air Curtain, LAC) 222.2.6 層流氣簾裝置透氣板測試治具 222.2.7 層流氣簾裝置出風均勻度測試台 232.2.8 無紙紀錄器 232.2.9 3D列印機 242.3 實驗儀器 242.3.1 微粒計數器(Airborne Particle Counter)
242.3.2 風速計 252.3.3 水質測試儀 252.3.4 壓力傳送器 262.3.5 掃描式電子顯微鏡 262.3.6 百分錶 28第三章 實驗方法 293.1 高流量透氣板 293.1.1 驗流程圖 303.1.2 實驗流程圖 353.1.3 測試方法 36第四章 實驗結果 414.1 高流量透氣板 414.1.1 微粒濃度 414.1.2 表面觀測 444.2 高流量層流氣簾裝置 564.2.1 風速均勻度 564.2.2 內部壓阻與風速 574.2.3 形變量 59第五章 結論與建議 625.1 結論
625.2 建議與未來實驗方向 63參考文獻 64符號彙編 67